‘Chips’ | Fabricantes chineses de ‘chips’ actualizam equipamento da ASML

Fabricantes chineses de semicondutores estão a actualizar equipamentos avançados de litografia da holandesa ASML para contornar os controlos de exportação impostos por EUA e Países Baixos, avançou ontem o jornal britânico Financial Times. A operação visa acelerar a produção de ‘chips’ usados em sistemas de inteligência artificial (IA), que integra a disputa em curso entre China e EUA pelo domínio das tecnologias do futuro.

Segundo fontes citadas pela publicação, fábricas chinesas que produzem ‘chips’ para telemóveis e aplicações de IA estão a melhorar o desempenho de máquinas de litografia ultravioleta profunda (DUV) – nomeadamente o modelo Twinscan NXT:1980i – através da aquisição de componentes no mercado secundário, incluindo plataformas mecânicas (“stages”), lentes e sensores de maior precisão.

Essas actualizações têm permitido às fábricas aumentar a produção de ‘chips’ de sete nanómetros, apesar das restrições que impedem a ASML de fornecer à China as suas máquinas DUV mais recentes ou qualquer equipamento de litografia ultravioleta extrema (EUV), essencial para processos mais avançados.

As melhorias, realizadas com assistência de empresas terceiras fora do controlo directo da ASML, permitem às fabricantes mitigar os custos adicionais e as perdas de rendimento associadas ao processo de “multi-patterning” – exposição múltipla do ‘wafer’ para compensar a falta de tecnologia EUV –, comum nas linhas de produção chinesas mais avançadas.

A ASML confirmou que “cumpre rigorosamente todas as leis e regulamentos aplicáveis” e negou fornecer actualizações que aumentem o desempenho dos sistemas para além do permitido. Actualmente, a empresa está impedida de melhorar a precisão (“overlay”) ou a velocidade (“throughput”) das máquinas DUV em mais de 1 por cento.

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